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GaAlAs/GaAs量子阱材料的光荧光谱研究
引用本文:刘文莉,李林,钟景昌,王晓华,刘国军.GaAlAs/GaAs量子阱材料的光荧光谱研究[J].大气与环境光学学报,2005(4).
作者姓名:刘文莉  李林  钟景昌  王晓华  刘国军
作者单位:长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室,长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室,长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室,长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室,长春理工大学高功率半导体激光国家重点实验室 吉林 长春 130022,吉林 长春 130022,吉林 长春 130022,吉林 长春 130022,吉林 长春 130022
基金项目:高功率半导体激光国家重点实验室基金(ZS3603)
摘    要:分子束外延生长GaAlAs/GaAs量子阱材料时,适当的衬底温度和Ⅴ/Ⅲ束流比是改善AlGaAs材料生长质量的重要因素。对GaAs、GaAlAs材料的生长条件进行优化,获得了高质量的量子阱材料,有源层分别为8nm、10nm、12nm时,10K下的PL谱半峰宽(FWHM)分别为6.42meV、6.28meV、6.28meV。

关 键 词:量子阱  光荧光(PL)谱  Ⅴ/Ⅲ束流比

Study on Photoluminescence of GaAlAs/GaAs Quantum Well Materials
LIU Wen-li,LI Lin,ZHONG Jing-chang,WANG Xiao-hua,LIU Guo-jun.Study on Photoluminescence of GaAlAs/GaAs Quantum Well Materials[J].Journal of Atmospheric and Environmental Optics,2005(4).
Authors:LIU Wen-li  LI Lin  ZHONG Jing-chang  WANG Xiao-hua  LIU Guo-jun
Abstract:
Keywords:
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