| 氮分压对电弧离子镀CrNx薄膜结构与性能的影响 |
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| 引用本文： | 钟彬,苟伟,李国卿,胡远荣,刘振东.氮分压对电弧离子镀CrNx薄膜结构与性能的影响[J].真空科学与技术学报,2006,26(Z1):115-118. |
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| 作者姓名： | 钟彬 苟伟 李国卿 胡远荣 刘振东 |
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| 作者单位： | 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,大连,116024 |
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| 摘 要： | 采用电弧离子镀技术,在不同n2分压下沉积Cr/CrNx薄膜.X射线衍射技术、努氏硬度计和UMT型球-盘摩擦试验机、M342-2型腐蚀测量系统分别测试了薄膜相结构、显微硬度、摩擦磨损和抗腐蚀性能.研究了N2分压对薄膜相组成、硬度、摩擦磨损和抗腐蚀性能的影响.结果表明随着N2分压的升高,薄膜由Cr2N(211)相过渡到CrN(220)相;薄膜硬度出现两个极值,对应于单相Cr2N和CrN;与钢基体相比,N2分压为0.35 Pa时制备的CrNx薄膜具有良好的耐磨性能和抗腐蚀性能.
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| 关 键 词： | Cr/CrNx薄膜 电弧离子镀 显微硬度 摩擦磨损 腐蚀 |
| 文章编号： | 1672-7126(2006)增-0115-04 |
| 修稿时间： | 2005年9月1日 |
Influence of Nitrogen Partial Pressure on Microstructures and Properties of CrNx Coatings Deposited by Arc Ion Plating |
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| Zhong Bin,Gou Wei,Li Guoqing,Hu Yuanrong,Liu Zhendong.Influence of Nitrogen Partial Pressure on Microstructures and Properties of CrNx Coatings Deposited by Arc Ion Plating[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2006,26(Z1):115-118. |
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| Authors: | Zhong Bin Gou Wei Li Guoqing Hu Yuanrong Liu Zhendong |
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