| 面曝光快速成形关键技术及研究现状 |
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| 引用本文： | 王伊卿,贾志洋,赵万华,卢秉恒. 面曝光快速成形关键技术及研究现状[J]. 机械设计与研究, 2009, 25(2): 96-100. DOI: 10.13952/j.cnki.jofmdr.a2188 |
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| 作者姓名： | 王伊卿 贾志洋 赵万华 卢秉恒 |
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| 作者单位： | 西安交通大学,制造系统国家重点实验室,西安,710049;西安交通大学,制造系统国家重点实验室,西安,710049;西安交通大学,制造系统国家重点实验室,西安,710049;西安交通大学,制造系统国家重点实验室,西安,710049 |
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| 摘 要： | 全面介绍了面曝光快速成形关键技术、应用及研究现状,指出了其优势和存在的问题;阐述了面曝光快速成型系统组成、掩膜生成方法及关键器件工作原理,分析了LCD作为快速成型掩膜生成器件的失效原因,重点比较了LCD、DMD掩膜生成器件的分辨率、可靠性以及对快速成型的适用性;探讨了掩膜曝光快速成形过程中,树脂曝光固化引起翘曲变形的原理,介绍了改善翘曲变形的方法;最后,根据以上分析以及掩膜生成关键器件的发展现状,提出了面曝光快速成形技术的发展趋势。
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| 关 键 词： | 面曝光 快速成型 掩膜 翘曲变形 |
The Key Technology and Research Status of Mask Projection Stereolithography |
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| WANG Yi-qing,JIA Zhi-yang,ZHAO Wan-hua,LU Bing-heng. The Key Technology and Research Status of Mask Projection Stereolithography[J]. Machine Design and Research, 2009, 25(2): 96-100. DOI: 10.13952/j.cnki.jofmdr.a2188 |
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| Authors: | WANG Yi-qing JIA Zhi-yang ZHAO Wan-hua LU Bing-heng |
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| Affiliation: | State Key Laboratory for Manufacturing Systems Engineering;Xi'an Jiaotong University;Xi'an 710049;China |
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| Abstract: | This article introduced the key technology,applications & research status of Mask projection Stereolithography(MPS) comprehensive,point out its advantages & disadvantages;especially emphasized the(MPS) system composition and mask generation methods developed nowadays in MPS techniques.The failure reasons of LCD as a rapid prototyping device to generate mask is analyzad,and their device precision and reliability as well as the applicability of rapid prototyping mask generation device is compared.Then the pri... |
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| Keywords: | mask exposal rapid prototyping mask warpage & distortion |
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