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掺Bi热蒸发CdS光导薄膜
引用本文:顾培夫,陈惠广.掺Bi热蒸发CdS光导薄膜[J].光电子.激光,1992,3(1):22-26.
作者姓名:顾培夫  陈惠广
作者单位:浙江大学光电科仪系 (顾培夫,陈惠广,何旭涛,梅霆,朱振才),浙江大学光电科仪系(唐晋发)
摘    要:本文用三种方法制备了掺Bi的CdS光导薄膜。一种方法是将Bi粉和CdS粉均匀混合蒸发;第二种方法是将CdS薄膜在CdS掺杂的Bi气氛中扩散,扩散温度为400~450℃;第三种方法是在CdS膜外再镀上一层很薄的Bi膜。文中介绍了它们的制备条件和光导特性,同时讨论了制备条件与光电导特性的关系。

关 键 词:掺硼  CdS光导薄膜  热蒸发  薄膜

Bismuth-doped Thermal Evaporated CdS Photoconductive Films
Gu Peifu,Chen Huiguang,He Xutao,Mei Ting,Zhu Zhencai,Tang Jinfa.Bismuth-doped Thermal Evaporated CdS Photoconductive Films[J].Journal of Optoelectronics·laser,1992,3(1):22-26.
Authors:Gu Peifu  Chen Huiguang  He Xutao  Mei Ting  Zhu Zhencai  Tang Jinfa
Affiliation:Dept.of Electro-optical and Sicence Instrumentation Zhejiang University.310027 Hangzhou
Abstract:
Keywords:photoconductive films  thermal evaporation
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