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AlGaN肖特基势垒二极管的研制
引用本文:邵庆辉,叶志镇,黄靖云,赵炳辉,江红星,林景瑜.AlGaN肖特基势垒二极管的研制[J].浙江大学学报(自然科学版 ),2004,38(10):1244-1247.
作者姓名:邵庆辉  叶志镇  黄靖云  赵炳辉  江红星  林景瑜
作者单位:[1]浙江大学硅材料国家重点实验室,浙江杭州310027 [2]堪萨斯州立大学物理系,曼哈顿堪萨斯美国
基金项目:国家重点基础研究发展计划(973计划)
摘    要:为研制适合高温高压下工作的整流器件,利用金属有机化学气相淀积(MOCVD)技术生长的AlGaN/GaN/蓝宝石材料,采用电子束蒸发的方法,用Au和Ti/Al分别作为肖特基接触和欧姆接触的电极,制备了AlGaN肖特基二极管,并对其工艺过程和器件特性进行了研究.I-V测试表明该AlGaN肖特基二极管具有明显的整流特性和较高的反向击穿电压(95 V),理想因子为1.93.经300℃1 min退火,该器件正、反向I-V特性都得到明显改善.采用变温I-V法对Au/AlGaN接触的肖特基势垒高度进行了标定,其势垒高度高达1.08 eV,更适合在高压、大电流条件下工作.

关 键 词:肖特基势垒二极管  势垒高度
文章编号:1008-973X(2004)10-1244-04
修稿时间:2003年10月20

Fabrication and investigation of AlGaN-based Schottky barrier diode
SHAO Qing-hui,YE Zhi-zhen,HUANG Jing-yun,ZHAO Bing-hui,JIANG Hong-xing,LIN Jing-yu,China.Fabrication and investigation of AlGaN-based Schottky barrier diode[J].Journal of Zhejiang University(Engineering Science),2004,38(10):1244-1247.
Authors:SHAO Qing-hui  YE Zhi-zhen  HUANG Jing-yun  ZHAO Bing-hui  JIANG Hong-xing  LIN Jing-yu  China
Affiliation:SHAO Qing-hui~1,YE Zhi-zhen~1,HUANG Jing-yun~1,ZHAO Bing-hui~1,JIANG Hong-xing~2,LIN Jing-yu~27,China, 2. Department of Physics,Kansas State University,Manhattan Kansas,USA)
Abstract:
Keywords:AlGaN
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