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叠栅MOSFETs的结构设计与研究
引用本文:张杰,柯导明,徐太龙,马强,陈军宁. 叠栅MOSFETs的结构设计与研究[J]. 电子技术, 2010, 47(6): 81-83
作者姓名:张杰  柯导明  徐太龙  马强  陈军宁
作者单位:安徽大学电子科学与技术学院;安徽大学电子科学与技术学院;安徽大学电子科学与技术学院;安徽大学电子科学与技术学院;安徽大学电子科学与技术学院
基金项目:安徽省教育厅自然科学研究重点项目( 
摘    要:通过分析设计,提出了一种新型结构的叠栅MOSFET,它的栅电容是由两个电容混联组成,所以它有较小的栅电容和显著的抑制短沟道效应的作用。模拟软件MEDICI仿真结果验证了理论分析的预言,从而表明该结构可用作射频领域。

关 键 词:叠栅MOSFET  阈值电压  栅氧化层电容  短沟道效应

Design and Study of MOSFETs with Stack-gate
Zhang Jie,Ke Daoming,Xu Tailong,Ma Qiang,Chen Junning. Design and Study of MOSFETs with Stack-gate[J]. Electronic Technology, 2010, 47(6): 81-83
Authors:Zhang Jie  Ke Daoming  Xu Tailong  Ma Qiang  Chen Junning
Affiliation:Zhang Jie Ke Daoming Xu Tailong Ma Qiang Chen Junning(School of Electronic Science and Technology,Anhui University)
Abstract:By analyzing,a new structure of stacked-gate MOSFET is proposed.Because of the gate capacitance is the result of the two gate mixed together,it has a smaller gate capacitance and a significantly inhibited role of short-channel effects.The simulation with software MEDICI has demonstrated the prediction of theoretical analysis,thus this structure can be used in radio-frequency fields very well.
Keywords:stack-gate MOSFET  threshold voltage  capacity of the gate-oxide  short channel effect  
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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