| 一种简单的衰减相移掩模 |
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| 引用本文： | 张锦,冯伯儒,侯德胜,周崇喜,姚汉民,郭永康,陈芬,孙方,苏平.一种简单的衰减相移掩模[J].四川激光,2000,21(3):64-64,66. |
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| 作者姓名： | 张锦 冯伯儒 侯德胜 周崇喜 姚汉民 郭永康 陈芬 孙方 苏平 |
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| 作者单位： | 四川大学物理系!成都610064中科院光电所微细加工光学技术国家重点实验室，成都双流610209，中科院光电所微细加工光学技术国家重点实验室!成都双流610209，中科院光电所微细加工光学技术国家重点实验室!成都双流610209，中科院光电所微细加工光学技术国家重点实验室!成都双流61020 |
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| 基金项目： | 中科院重大项目和中科院光电所所长基金资助 |
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| 摘 要： | :本文介绍了一种与传统Cr掩模制作工艺相兼容的单层衰减相移掩模的结构、原理和制作方法 ,提供了部分实验结果。
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| 关 键 词： | 光刻 衰减相移掩模 相移器 单层材料 |
A simpler attenuated phase-shifting mask |
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| Zhang Jin,Feng Boru,Hou Desheng,Zhou Chongxi,Yao Hanmin,Guo Yongkang,Chen Fen,Sun Fang,Su Ping.A simpler attenuated phase-shifting mask[J].Laser Journal,2000,21(3):64-64,66. |
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| Authors: | Zhang Jin Feng Boru Hou Desheng Zhou Chongxi Yao Hanmin Guo Yongkang Chen Fen Sun Fang Su Ping |
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| Abstract: | The structure,principle and manufacturing process of a single layer attenuated phaseshifting mask which is compatible with the traditional Cr mask fabrication technology are introduced in this paper.Partial experimental results are provided. |
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| Keywords: | photolithography phase shifting mask attenuated phase shifting mask |
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