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MOS和双极集成电路的发展
引用本文:青锋,川望.MOS和双极集成电路的发展[J].微电子学,1973(3).
作者姓名:青锋  川望
摘    要:1972年美国半导体工业产值达到16.5亿美元,比1971年增长13%;其中MOS集成电路发展最快,只是数字双极集成电路稍有下降,线性电路也提高25%,光电器件增加40%,分立元件也有所增加。一、MOS MOS现已成为TTL新的竞争者(70年产值为2百万美元),MOS已很快成为标准产品工业的竞争者。今年将是从常规产品转为标准产品的一年。这一方面意味着MOS工艺日臻完善,另一方面表明将大幅度降价,约在1975年标准产品可占MOS总

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