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| 新型半导体薄膜材料的研究与进展 | |
| 作者姓名： | 李玉增 |
| 作者单位： | 北京有色金属研究总院 |
| 摘 要： | 阐述了新型半导体薄膜材料－金刚石和富勒烯、Ｃ－氮化硼和β－碳化硅以及聚乙烯块和聚噻吩等制备技术进展、器件应用概况和未来发展趋势。 |
| 关 键 词： | 半导体薄膜 金刚石 富勒烯 氮化硼 碳化硅 |
| 本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录！ | |
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