用MOCVD在偏(100)GaAs基片上生长空间规则排列的1.3μm InAs量子点 |
| |
引用本文: | 梁松,朱洪亮,潘教清,王圩.用MOCVD在偏(100)GaAs基片上生长空间规则排列的1.3μm InAs量子点[J].半导体学报,2005,26(11). |
| |
作者姓名: | 梁松 朱洪亮 潘教清 王圩 |
| |
作者单位: | 中国科学院半导体研究所,光电子研究中心,北京,100083;中国科学院半导体研究所,光电子研究中心,北京,100083;中国科学院半导体研究所,光电子研究中心,北京,100083;中国科学院半导体研究所,光电子研究中心,北京,100083 |
| |
摘 要: | 用MOCVD技术在偏(1100)GaAs衬底上生长了发光波长在1.3μm的线状空间规则排列InAs量子点.光致发光实验表明,相对于正(100)衬底,偏(100)GaAs衬底上生长的InAs量子点具有更好的材料质量,光谱有更大的强度和更窄的线宽.为了得到发光波长为1.3μm的量子点,对比研究了不同In含量的InGaAs应力缓冲层(SBL)和应力盖层(SCL)的应力缓冲作用.结果表明,增加SCL中In含量能有效延伸量子点发光波长到1. 3μm,但是随着SBL中In的增加,发光波长变化不明显,并且材料质量明显下降.
|
关 键 词: | InAs 量子点 MOCVD |
本文献已被 万方数据 等数据库收录! |
| 点击此处可从《半导体学报》浏览原始摘要信息 |
|
点击此处可从《半导体学报》下载全文 |
|