| 考虑缺陷形状分布的IC成品率模型 |
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| 引用本文： | 王俊平,郝跃.考虑缺陷形状分布的IC成品率模型[J].半导体学报,2005,26(5). |
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| 作者姓名： | 王俊平 郝跃 |
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| 作者单位： | 西安电子科技大学微电子研究所,西安,710071 |
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| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(863计划) |
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| 摘 要： | 实现了基于圆缺陷模型的蒙特矩形度之间的关系,提出了更具有一般性的两种集成电路成品率模型,它们分别对应于矩形度相同和不同的缺陷.仿真结果表明该模型为成品率的精确表征提供了新途径.
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| 关 键 词： | 真实缺陷 形状分布 圆缺陷模型 成品率模型 |
Yield Modeling of IC Based on Distribution of Defect Shapes |
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| WANG Junping,Hao Yue.Yield Modeling of IC Based on Distribution of Defect Shapes[J].Chinese Journal of Semiconductors,2005,26(5). |
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| Authors: | WANG Junping Hao Yue |
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| Keywords: | |
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