| 射频磁控溅射制备ZnO∶Ga透明导电膜及特性 |
| |
| 引用本文： | 余旭浒,马瑾,计峰,王玉恒,王翠英,马洪磊. 射频磁控溅射制备ZnO∶Ga透明导电膜及特性[J]. 半导体学报, 2005, 26(2) |
| |
| 作者姓名： | 余旭浒 马瑾 计峰 王玉恒 王翠英 马洪磊 |
| |
| 作者单位： | 1. 山东大学物理与微电子学院,济南,250100
2. 泰山医学院物理实验室,泰安,271000 |
| |
| 基金项目： | 国家自然科学基金，高等学校博士学科点专项科研项目 |
| |
| 摘 要： | 采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备出高质量的镓掺杂氧化锌(ZnO∶Ga)透明导电膜,并对薄膜的结构和光电特性以及制备参数对薄膜性能的影响进行了研究.制备的ZnO∶Ga是具有六角纤锌矿结构的多晶薄膜,最佳择优取向为(002)方向.薄膜的最低电阻率达到了3.9×10-4Ω·cm,方块电阻约为4.6Ω/□,薄膜具有良好的附着性,在可见光区的平均透过率达到90%以上.
|
| 关 键 词： | 磁控溅射 ZnO∶Ga 光电特性 |
Properties of Transparent Conducting ZnO∶Ga Films Prepared by RF Magnetron Sputtering |
| |
| Yu Xuhu,Ma Jin,Ji Feng,Wang Yuheng,Wang Cuiying,Ma Honglei. Properties of Transparent Conducting ZnO∶Ga Films Prepared by RF Magnetron Sputtering[J]. Chinese Journal of Semiconductors, 2005, 26(2) |
| |
| Authors: | Yu Xuhu Ma Jin Ji Feng Wang Yuheng Wang Cuiying Ma Honglei |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 万方数据 等数据库收录！ |
|
