| 电磁屏蔽层设计及其磁控溅射制备的研究 |
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| 引用本文： | 王德苗,董树荣,任高潮.电磁屏蔽层设计及其磁控溅射制备的研究[J].真空科学与技术学报,2006,26(Z1):91-94. |
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| 作者姓名： | 王德苗 董树荣 任高潮 |
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| 作者单位： | 浙江大学信电系,杭州,310027 |
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| 摘 要： | 通过传输线模型推导出多层无限大平板的屏蔽效能的计算公式,并根据公式设计了双层屏蔽层,通过多靶直流溅射制备了多种金属屏蔽膜.研究结果表明衰减损耗是各层屏蔽效果线性相加的结果,反射损耗与各层相对位置关系无关,层数多或各屏蔽层的反射越大,则屏蔽效果越好.采用Cu/1Cr18Ni9Ti的金属屏蔽层结构,可获得良好的屏蔽效能及耐候性,单纯用表面阻抗来评估多层金属膜的电磁屏蔽效果并不合适.
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| 关 键 词： | 塑料 电磁屏蔽 磁控溅射 屏蔽效能 |
| 文章编号： | 1672-7126(2006)增-0091-04 |
| 修稿时间： | 2005年9月1日 |
Growth of Electromagnetic Shielding Multilayer by Magnetron Sputtering for Plastic Chassis |
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| Wang Demiao,Dong Shurong,Ren Gaochao.Growth of Electromagnetic Shielding Multilayer by Magnetron Sputtering for Plastic Chassis[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2006,26(Z1):91-94. |
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| Authors: | Wang Demiao Dong Shurong Ren Gaochao |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | EMI |
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