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| 吸水剖面测井沾污控制与校正处理 | |
| 引用本文： | 何茂东,覃远庆.吸水剖面测井沾污控制与校正处理[J].测井技术,2000,24(2). |
| 作者姓名： | 何茂东 覃远庆 |
| 摘 要： | 对吸水剖面测井中沾污形成的原因进行了分析,提出降低示踪剂的比强度和注入"冷球"两种控制吸水剖面测井沾污的新工艺.从理论上分析了如何对沾污进行校正,建立了沾污校正的解释模型.实际结果表明,对沾污进行校正后提高了吸水剖面测井的解释精度. |
| 关 键 词： | 吸水剖面 污染防治 示踪剂 解释模型 |
Contamination Control of Injection Profile Log and its Correction |
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| He Maodong,Qin Yuanqing.Contamination Control of Injection Profile Log and its Correction[J].Well Logging Technology,2000,24(2). | |
| Authors: | He Maodong Qin Yuanqing |
| Abstract: | |
| Keywords: | |
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