| 直流磁控溅射法制备非晶态氧化钒薄膜光学特性研究 |
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| 引用本文： | 杜明军,吴志明,罗振飞,许向东,王涛,蒋亚东.直流磁控溅射法制备非晶态氧化钒薄膜光学特性研究[J].电子器件,2010,33(5). |
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| 作者姓名： | 杜明军 吴志明 罗振飞 许向东 王涛 蒋亚东 |
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| 作者单位： | 电子科技大学光电信息学院,电子薄膜与集成器件国家重点实验室,成都,610054 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金项目资助 |
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| 摘 要： | 研究了直流反应磁控溅射工艺中衬底温度对氧化钒(V2O5)薄膜性能的影响,利用X射线光电子能谱(XPS)、扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)和紫外-可见光分光光度计(UV1700)分别对薄膜进行了表征.实验结果表明,除了组分和晶态,薄膜的形貌和光学性能受衬底温度的影响很大.随着衬底温度的升高,膜表面变得粗糙,膜厚减小.光学特性测试表明,当衬底温度从160℃升高到320 ℃,光学带隙从2.39 eV下降到2.18 eV.
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| 关 键 词： | V2O5薄膜 衬底温度 磁控溅射 光学性能 |
Study on optical properties of amorphous vanadium oxide thin films by DC magnetron sputtering |
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| DU Mingjun,WU Zhiming,LUO Zhenfei,XU Xiangdong,WANG Tao,JIANG Yadong.Study on optical properties of amorphous vanadium oxide thin films by DC magnetron sputtering[J].Journal of Electron Devices,2010,33(5). |
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| Authors: | DU Mingjun WU Zhiming LUO Zhenfei XU Xiangdong WANG Tao JIANG Yadong |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | vanadium pentoxide thin films substrate temperature magnetron sputtering optical properties |
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