| 工艺公差对阵列波导光栅波分复用器性能的影响 |
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| 作者姓名： | 秦政坤 马春生 李德禄 张海明 张大明 刘式墉 |
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| 作者单位： | 吉林大学电子科学与工程学院 集成光电子学国家重点联合实验室,长春 130012;吉林师范大学,四平 136000;吉林大学电子科学与工程学院 集成光电子学国家重点联合实验室,长春 130012;吉林大学电子科学与工程学院 集成光电子学国家重点联合实验室,长春 130012;吉林大学电子科学与工程学院 集成光电子学国家重点联合实验室,长春 130012;吉林大学电子科学与工程学院 集成光电子学国家重点联合实验室,长春 130012;吉林大学电子科学与工程学院 集成光电子学国家重点联合实验室,长春 130012 |
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| 摘 要： | 依据阵列波导光栅(AWG)的传输理论,分析了工艺公差对硅基聚合物AWG波分复用器性能的影响.分析结果表明,工艺公差将引起AWG传输光谱的漂移,并使串扰增大.为了实现AWG器件正常的解复用功能,我们对AWG工艺公差的累积和补偿效应进行了讨论.
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| 关 键 词： | 阵列波导光栅 波分复用器 工艺公差 传输光谱 串扰 工艺公差 阵列波导光栅 波分 复用器 性能 影响 Multiplexers Arrayed Waveguide Grating Characteristics Manufacturing 补偿效应 功能 解复用 器件 串扰 漂移 传输光谱 结果 基聚合物 分析 |
| 文章编号： | 0253-4177(2006)05-0926-06 |
| 收稿时间： | 2006-01-04 |
| 修稿时间： | 2006-02-16 |
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