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PVD法在ZnO(001)薄膜上制备ZnO纳米线阵列
引用本文:王立晟,章晓中.PVD法在ZnO(001)薄膜上制备ZnO纳米线阵列[J].电子显微学报,2005,24(4):252-252.
作者姓名:王立晟  章晓中
作者单位:清华大学材料科学与工程系电子显微镜实验室,北京,100084;清华大学材料科学与工程系电子显微镜实验室,北京,100084
摘    要:本实验采用简单物理气相沈积(PVD)的方汉,直接蒸发Zn粉末,在ZnO(001)取向薄膜衬底上制备出整齐排列的ZnO纳米线陈列,与已有的报道不同,该方法不含任何催化剂或者添加剂。实验在水平管式炉中进行,采用Ar气(200sccm)作为保护气,反应温度750℃,反应时间90分钟。

关 键 词:纳米线阵列  PVD法  取向薄膜  ZnO  制备  直接蒸发  反应温度  反应时间  添加剂

Synthesis of well-aligned ZnO nanowires by physical vapor deposition on c-oriented ZnO thin films
WANG Li-sheng,ZHANG Xiao-zhong.Synthesis of well-aligned ZnO nanowires by physical vapor deposition on c-oriented ZnO thin films[J].Journal of Chinese Electron Microscopy Society,2005,24(4):252-252.
Authors:WANG Li-sheng  ZHANG Xiao-zhong
Abstract:
Keywords:
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