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一种新型沉薄铜药水的研制
引用本文:欧胜,刘彬云,郑雪明,王恒义. 一种新型沉薄铜药水的研制[J]. 印制电路信息, 2009, 0(Z1): 186-191
作者姓名:欧胜  刘彬云  郑雪明  王恒义
作者单位:广东东硕科技有限公司
摘    要:本文介绍了一种应用于印制电路板化学沉铜工艺的新型沉薄铜药水。该产品具有简易分析及操作;沉积速度慢、厚度薄且背光能力优异、背光稳定性好;药水表面张力小、可满足高厚径比(13:1以上)板料生产要求;抗热冲击能力优异、同时能适应于高Tg和普通Tg板料等多种板料的优点。

关 键 词:化学镀铜  稳定性  背光

Research on a New Electroless Copper Plating Solution for Thinner Copper Deposit
Abstract:
Keywords:
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