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共振隧穿二极管的材料结构设哥——共振隧穿器件讲座(5)
作者姓名:郭维廉
作者单位:[1]天津工业大学信息与通讯工程学院,天津300160 [2]专用集成电路国家级重点实验室,石家庄050051 [3]天津大学电子信息工程学院,天津300072
摘    要:在系统细致分析RTD材料结构参数与器件特性参数关系的基础上,确立了RTD材料结构的设计原则和设计方法,并对以SI—GaAs为衬底的RTD分子束外延(MBE)材料生长结构进行了设计。所研制出的RTD参数实测结果证实了此设计方法是正确的。

关 键 词:共振隧穿二极管 材料结构设计 分子束外延
文章编号:1671-4776(2006)08-0361-05
收稿时间:2006-03-14
修稿时间:2006-03-14
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