| 离子束溅射沉积作用下聚四氟乙烯膜的制备和结构分析 |
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| 引用本文： | 王立铎,贺小明.离子束溅射沉积作用下聚四氟乙烯膜的制备和结构分析[J].功能材料,1997,28(6):660-661,655. |
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| 作者姓名： | 王立铎 贺小明 |
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| 作者单位： | 清华大学材料科学与工程系 |
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| 摘 要： | 本文首先利用离子束溅射聚四氟乙烯靶材的方法制备了薄膜，进而研究了其结构。由ＸＰＳ的结果可知，所得薄膜主要由ＣＦ２结构组成；由ＦＴ－ＩＲ的结果可知，在１１６９ｃｍ＾－１和１０８３ｃｍ＾－１处出现了Ｃ－Ｆ的最强吸收峰，在７３４ｃｍ＾－１，６１９ｃｍ＾－１和５００ｃｍ＾－１处出现了聚四氟乙烯的特征吸收峰。ＸＰＳ和ＦＴ－ＩＲ的结果是一致的，所得薄膜呈现聚四氟乙烯的结构特征。
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| 关 键 词： | 离子束溅射沉积 聚四氟乙烯 薄膜 |
Structure Analysis of Teflon Films Synthesized by Ion Beam Sputtering Deposition |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ion beam sputtering deposition teflon thin film |
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