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| 直流磁控溅射(Ti、Al)N硬化膜的研制 | |
| 作者姓名： | 袁军 丁明清 胡汉泉 |
| 作者单位： | 北京真空电子技术研究所(袁军，丁明清)，北京真空电子技术研究所(胡汉泉) |
| 摘 要： | 本文介绍单靶直流磁控溅射三元复合(Ti,Al)N硬化膜的研制结果。制得的Ti_(0.5)Al_(0.5)N腹具有(111)面择优取向Bl NaCl立方结构,显微硬度达到2700kg/mm~2,并具有良好的抗氧化性和抗酸腐蚀性。文中着重讨论了沉膜过强中氮分压、基片负偏压以及基片温度对薄膜显微硬度、形貌、晶粒尺寸和晶格常数的影响。 |
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