|
|||||
|
|
| 一种新的GaAs晶体选择腐蚀液的实验研究 | |
| 作者姓名： | 张晓波 邓希敏 |
| 作者单位： | 吉林大学电子科学系(张晓波)，吉林大学电子科学系(邓希敏) |
| 摘 要： | 本文提出将HCl+H_2O_2+H_2O溶液系统作为GaAs晶体的择优腐蚀液,并对它的腐蚀特性进行了一些实验研究,将其应用于半导体双异质结激光器的制造工艺中得到了满意的结果. |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
|
||||||||||||||||
|
||||||||||||||||
|
||||||||||||||||
|
|
|
|
| 设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏 |
|
Copyright©北京勤云科技发展有限公司 京ICP备09084417号 |