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GaN基和LiZnAs基稀磁半导体的研究进展
引用本文:王爱玲,毋志民,王聪,赵若禺.GaN基和LiZnAs基稀磁半导体的研究进展[J].材料导报,2013,27(15):113-118.
作者姓名:王爱玲  毋志民  王聪  赵若禺
作者单位:1. 重庆师范大学物理与电子工程学院,重庆401331;重庆市光电功能材料重点实验室,重庆401331
2. 重庆师范大学物理与电子工程学院,重庆,401331
基金项目:国家自然科学基金,教育部科学技术重点项目,重庆市教委科技项目,重庆市高校创新团队项目
摘    要:综述了稀磁半导体及其研究进展,阐述了提高居里温度的方法。从晶体结构、材料的研究现状和待解决的问题几个方面详述了以GaN为代表的传统的Ⅲ-Ⅴ族基和LiZnAs为代表的新型Ⅰ-Ⅱ-Ⅴ族基两类稀磁半导体的基本特点,并展望了今后的研究重点及发展方向。

关 键 词:GaN基稀磁半导体  LiZnAs基新型稀磁半导体  居里温度  晶体结构

Research Progress of Diluted Magnetic Semiconductors Based on GaN and LiZnAs
WANG Ailing,WU Zhimin,WANG Cong,ZHAO Ruoyu.Research Progress of Diluted Magnetic Semiconductors Based on GaN and LiZnAs[J].Materials Review,2013,27(15):113-118.
Authors:WANG Ailing  WU Zhimin  WANG Cong  ZHAO Ruoyu
Affiliation:WANG Ailing;WU Zhimin;WANG Cong;ZHAO Ruoyu;College of Physics and Electronic Engineering,Chongqing Normal University;Chongqing Key Laboratory of Optical and Electronic Functional Material;
Abstract:
Keywords:diluted magnetic semiconductor based on GaN  diluted magnetic semiconductor based on LiZnAs  Curie temperature  crystal structure
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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