异氰酸酯改性蒙脱土的制备与表征

通过二苯基甲烷-4,4'-二异氰酸酯(MDI)改性酸化的钠基蒙脱土(Na-MMT),制得MDI-MMT,再利用MDI-MMT分别与水和乙醇反应,制备H2O-MDI-MMT和C2H5OH-MDI-MMT。利用十八烷基三甲基氯化铵(OTAC)改性的MMT和OTAC、MDI复配改性MMT,分别制得OTAC-MMT和OTAC-MDI-MMT。采用电感耦合等离子体发射光谱(ICP-OES)、FTIR、TG、XRD和SEM对改性MMT进行了表征。结果表明,MDI改性MMT对其层间阳离子含量不产生影响,且MDI-MMT、H2O-MDI-MMT和C2H5OH-MDI-MMT的层间距变化不大,保持在1.33~1.44 nm之间。OTAC改性MMT层间距得到了较大的改善,层间距在2.03~4.43 nm范围内,而OTAC、MDI复配改性MMT的层间距得到了进一步扩大,最大达到了15.98 nm,实现了充分剥离。