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在液氮温度下具有高增益的SiGe/SiHBT
作者姓名:邹德恕  陈建新  沈光地  高国  杜金玉  张时明  袁颖  王东凤  邓军  W.X.Ni  G.V.Hansson
作者单位:北京工业大学电子工程系!北京市光电子技术实验室,北京,100022,北京工业大学电子工程系!北京市光电子技术实验室,北京,100022,北京工业大学电子工程系!北京市光电子技术实验室,北京,100022,北京工业大学电子工程系!北京市光电子技术实验室,北京,100022,北京工业大学电子工程系!
摘    要:本文分析了硅双极晶体管电流增益在低温下减小的原因.通过优化设计,研制出在液氮温度下具有高增益的SiGe/SiHBT,并分析了其工作机理.

关 键 词:液氮温度  硅双极晶体管  增益  设计
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