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| 调制中频高功率脉冲磁控溅射电源的设计 | |
| 作者单位： | ;1.装甲兵技术学院通信教研室 |
| 摘 要： | 文章指出叠加直流的HPPMS技术有直流部分占空比较高和不可控制2大缺点,在做沉积薄膜实验时无法提供溅射所需的高功率,导致空比较低,溅射效率稍低的高功率脉冲产生。为了解决问题,需要研制一台电源,并且该电源可以用中频调制脉冲高功率磁控溅射MPP(Modulated pulsed power),普通高功率磁控溅射系统中的直流部分可以用低频脉冲来代替,尽可能减少低频脉冲占空比并且可以确保充分预处理,使高功率脉冲占空比尽可能最大,提高系统的溅射效率。 |
| 关 键 词： | 调制脉冲 磁控溅射 HPPMS MPP |
Modulation frequency high power pulsed magnetron sputtering power supply design |
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