| 氦在钛靶及Al2O3中的行为研究 |
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| 引用本文： | 魏澎 赖祖武. 氦在钛靶及Al2O3中的行为研究[J]. 核技术, 1996, 19(8): 460-465 |
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| 作者姓名： | 魏澎 赖祖武 |
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| 作者单位： | 复旦大学，中国工程物理研究院北京研究生部，中国工程物理研究院应用电子学研究所 |
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| 摘 要： | 报道了利用质子增强背散射和扫描电镜等方法，研究不同工艺制作的钛膜靶和不同纯度的Ａｌ２Ｏ３中注入的＾４Ｈｅ在室温下的行为。研究结果表明，离子束增强淀积新工艺制备的钛膜与基体的结合强度优于原来热蒸发镀制的钛靶；氦在Ａｌ２Ｏ３与在钛靶中具有不同的释放机制；钛靶的起泡注入剂量在４×１０＾１７－７×１０＾１７Ｈｅ／ｃｍ＾２之间，而且起泡剂量与泡破裂剂量相差不大；较之新工艺制备的钛靶，氦在Ａｌ２Ｏ３中更不易形
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| 关 键 词： | 氦 深度分布 钛靶 氦泡 三氧化二铝 |
Behaviour of helium in titanium target and Al_2O_3 |
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| Wei Peng,Zhao Guoqing, Lai Zuwu. Behaviour of helium in titanium target and Al_2O_3[J]. Nuclear Techniques, 1996, 19(8): 460-465 |
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| Authors: | Wei Peng Zhao Guoqing Lai Zuwu |
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| Keywords: | Helium Depth distribution Titanium target Sintered alumina He bubbles |
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