| Ni-W-P-SiC化学复合镀层孔隙率的研究 |
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| 引用本文： | 张欢,王清成,戴亚堂. Ni-W-P-SiC化学复合镀层孔隙率的研究[J]. 表面技术, 2004, 33(4): 35-36 |
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| 作者姓名： | 张欢 王清成 戴亚堂 |
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| 作者单位： | 西南科技大学材料学院,四川,绵阳,621002;西南科技大学材料学院,四川,绵阳,621002;西南科技大学材料学院,四川,绵阳,621002 |
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| 基金项目： | 西南科技大学校科研和教改项目 |
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| 摘 要： | 研究了化学镀Ni-W-P-SiC复合镀层的孔隙率.结果表明,镀液温度和施镀时间对镀层孔隙率的影响较大,在镀液T=80℃、施镀时间t=2.5h时所得镀层的孔隙率较小;热处理温度和时间对镀层孔隙率有一定影响,热处理温度为400℃,时间为3h时,镀层孔隙率最小.
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| 关 键 词： | 化学镀 Ni-W-P-SiC 复合镀层 孔隙率 |
| 文章编号： | 1001-3660(2004)04-0035-02 |
| 修稿时间： | 2004-03-15 |
Study on Porosity of Electroless Ni-W-P-SiC Composite Coating |
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| ZHANG Huan,WANG Qing-cheng,DAI Ya-tang. Study on Porosity of Electroless Ni-W-P-SiC Composite Coating[J]. Surface Technology, 2004, 33(4): 35-36 |
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| Authors: | ZHANG Huan WANG Qing-cheng DAI Ya-tang |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Electroless Ni-W-P-SiC composite coating Porosity |
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