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| 电磁聚焦成象系统中带不饱和磁铁聚焦磁场的约束逆设计 | |
| 引用本文： | 倪国强,方二伦.电磁聚焦成象系统中带不饱和磁铁聚焦磁场的约束逆设计[J].电子学报,1991,19(2):50-56. |
| 作者姓名： | 倪国强 方二伦 |
| 作者单位： | 北京理工大学 (倪国强，周立伟，金伟其)，西安近代化学研究所(方二伦) |
| 摘 要： | 本文对电磁聚焦成像系统中带不饱和磁铁的聚焦磁场的逆设计进行了探讨,用约束优化方法——内罚函数法来设计能实现给定磁场分布的实际磁聚焦线圈系统。 |
| 关 键 词： | 电磁聚焦成像 磁铁聚焦 磁场 |
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