|
|||||
|
|
| 退火气氛对SnO_2:F薄膜low-e性能的影响（英文） | |
| 引用本文： | 高倩,李铭,刘涌,宋晨路,葛言凯,韩高荣.退火气氛对SnO_2:F薄膜low-e性能的影响（英文）[J].稀有金属材料与工程,2012(Z3). |
| 作者姓名： | 高倩 李铭 刘涌 宋晨路 葛言凯 韩高荣 |
| 作者单位： | 浙江大学 |
| 基金项目： | NSFC(50824001) |
| 摘 要： | SiO_2:F薄膜作为low-e玻璃的功能层材料,广泛应用于节能镀膜玻璃。对帮化学气相沉积法在玻璃表面沉积的约250 nm厚的SiO_2:F薄膜进行不同气氛的退火处理。结果发现,薄膜的电学、光学性能在氦气和空气两种不同的退火气氛下会有显著的变化。SiO_2:F薄膜的Low-e性能经过空气中高温退火下降明显。但在空气中退火后,再在氮气保护下退火,性能会有所恢复。对该现象的机理也进行了研究。 |
| 关 键 词： | Low-e SnO_ F薄膜 退火 常压化学气相沉积 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |