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| 美国安美特(M＆T)化学公司几个典型工艺的特点 | |
| 引用本文： | 丁立津.美国安美特(M＆T)化学公司几个典型工艺的特点[J].电镀与环保,1989(4). |
| 作者姓名： | 丁立津 |
| 作者单位： | 南京市南安电镀技术公司 |
| 摘 要： | 美国安美持(M＆T)化学公司的几个典型工艺: 一、2~#高效率碱性光亮镀铜工艺采用诺切液及CL-3和CL-4作添加剂,可在氰化物溶液中镀得光亮的铜镀层。特点为电流密度范围宽,沉积速度快,可达1μ/s。诺切液消耗少,CL-3为80～135mL/KAH,CL-4为250～330mL/KAH。二、德光酸性光亮镀铜工艺采用D-1-R,D-2-R及D-3-R为光亮剂。D-1-R消耗量为40～60mL/KAH,D-2-R消耗量为70～90mL/KAH。D_k范围宽,Fe~(2+)可允许达2g/L。三、3号高效能光亮镀镍工艺 |
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