| 无外加氟施主放电激发XeF发射谱的时间特性 |
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| 引用本文： | 马树森 李昌勇. 无外加氟施主放电激发XeF发射谱的时间特性[J]. 量子电子学报, 1998, 15(1): 32-35 |
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| 作者姓名： | 马树森 李昌勇 |
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| 作者单位： | 中国科学院安徽光机所!合肥，230031，山西大学电子系!太原，030006，中国科学院安徽光机所!合肥，230031，中国科学院安徽光机所!合肥，230031 |
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| 摘 要： | 本文报道了无外加氟施主的情况下采用聚四氯乙烯板面预电离，放电激发Xe／Ne混合气体，观察到了263nm、308nm、351nm、353nmXeF发射谱。研究了谱的时间特性，谱的脉宽达500ns，大于放电电流脉宽。
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| 关 键 词： | 无外加氟施主 面预电离 发射谱时间特性 |
The Time Characteristic of XeF UV Emission Spectrum Excited by Discharge without Additional Fluorine Donor |
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| Ma Sbusen, Li Changyong, Hu Tianshu, Zhang Zbaoping. The Time Characteristic of XeF UV Emission Spectrum Excited by Discharge without Additional Fluorine Donor[J]. Chinese Journal of Quantum Electronics, 1998, 15(1): 32-35 |
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| Authors: | Ma Sbusen Li Changyong Hu Tianshu Zhang Zbaoping |
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| Abstract: | The 263 nm) 308 nmt 351 nm emission spectra of XeF excimer are observed inXe/Ne mixture gases excited by discharge with surface preionization over the teflon plate.The time charactistic of the spectra is studied. The pulse width of fluorescence is 500 ns,which is longer than that of discharge current. |
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| Keywords: | without additional fluorine donor gas surface preionization time characteristic of emission spectrum |
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