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等离子辉光TiN复合渗镀层结构与性能的研究
引用本文:刘燕萍,徐晋勇,隗晓云,王建忠,高原,徐重. 等离子辉光TiN复合渗镀层结构与性能的研究[J]. 材料热处理学报, 2005, 26(6): 109-112
作者姓名:刘燕萍  徐晋勇  隗晓云  王建忠  高原  徐重
作者单位:1. 太原理工大学表面工程研究所,山西,太原,030024
2. 太原理工大学表面工程研究所,山西,太原,030024;桂林电子工业学院,广西,桂林,541004
基金项目:国家自然科学基金和上海宝钢集团公司联合资助项目(50374050);山西省自然科学基金项目(20031050)
摘    要:利用等离子渗金属技术、尖端放电、空心阴极效应和反应气相沉积技术,在碳钢表面形成具有扩散层和沉积层的新型复合渗镀TiN沉积层+TiN析出相+Ti扩散层,并与等离子渗镀TiN,Ti层以及在碳钢基体表面直接用PVD法沉积TiN薄膜的表面形貌、结构、耐蚀性进行了检测和分析。结果表明:等离子渗镀的复合渗镀TiN/Ti层表面为均匀起伏的胞状物,Ti和N原子由表层呈梯度沿基体向内分布,属于冶金扩散层;用等离子渗金属技术等形成的复合渗镀TiN沉积层+TiN析出相+Ti扩散层,其表面形貌是为均匀、致密、细小的组织,平均硬度达到2500HV0.1左右,渗镀层厚度达十几微米,TiN层择优取向为(200)晶面;而PVD法直接沉积TiN薄膜厚度较薄,晶粒以不规则形式分布在基体上。在0.5mol/L H2SO4溶液中腐蚀性能表明,复合渗镀TiN沉积层+TiN析出相+Ti扩散层的耐蚀性较好。

关 键 词:等离子辉光放电 PVD TiN 耐蚀性 组织结构
文章编号:1009-6264(2005)06-0109-04
收稿时间:2005-03-02
修稿时间:2005-03-022005-09-30

Study on Structure and Property of TiN Multi-permeating coatings Prepared by Plasma Discharge Technique
LIU Yan-ping,XU Jin-yong,KUI Xiao-yun,WANG Jian-zhong,GAO Yuan,XU Zhong. Study on Structure and Property of TiN Multi-permeating coatings Prepared by Plasma Discharge Technique[J]. Transactions of Materials and Heat Treatment, 2005, 26(6): 109-112
Authors:LIU Yan-ping  XU Jin-yong  KUI Xiao-yun  WANG Jian-zhong  GAO Yuan  XU Zhong
Abstract:
Keywords:
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