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| 过滤电弧抑制薄膜中颗粒机理的实验分析 | |
| 引用本文： | 李成明,孙晓军,张增毅,唐伟忠,吕反修.过滤电弧抑制薄膜中颗粒机理的实验分析[J].材料科学与工艺,2004,12(3):268-271. |
| 作者姓名： | 李成明 孙晓军 张增毅 唐伟忠 吕反修 |
| 作者单位： | 1. 北京科技大学,材料学院,北京,100083 2. 中国科学院,兰州化学物理研究所,甘肃,兰州,730000 3. 河北省机电设备招标公司,河北,石家庄,050051 |
| 摘 要： | 讨论利用直线型过滤电弧制备TiAlN薄膜中,过滤磁场作用于弧斑、靶中毒现象,电子和离子的回流和叠加偏压等因素影响作用的大小进行了实验分析.结果表明,磁场对弧斑分裂和弧斑运动速度的综合作用最为显著是由于直线型过滤电弧形成的瓶颈磁场造成的电子和离子的回流,以及直流叠加脉冲偏压形成的放电空间的等离子体磁撞,分解和离化的所起的共同作用的结果.这对于控制电弧离子镀沉积薄膜中的颗粒尺寸和颗粒密度,指定合理的工艺参数有一定的指导作用. |
| 关 键 词： | 过滤电弧 沉积 磁场 过滤 电弧抑制 沉积薄膜 颗粒密度 机理 实验分析 filtering films 指导 工艺参数 颗粒尺寸 电弧离子镀 控制 共同作用 离化 分解 磁撞 等离子体 放电空间 压形 |
| 文章编号： | 1005-0299(2004)03-0268-04 |
| 修稿时间： | 2003年3月10日 |
The experimental analysis of suppressing macroparticles in films by filtering arc |
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| LI Cheng-ming,SUN Xiao-jun,ZHANG Zeng-yi,TANG Wei-zhong,LU Fan-xiu.The experimental analysis of suppressing macroparticles in films by filtering arc[J].Materials Science and Technology,2004,12(3):268-271. | |
| Authors: | LI Cheng-ming SUN Xiao-jun ZHANG Zeng-yi TANG Wei-zhong LU Fan-xiu |
| Affiliation: | LI Cheng-ming~1,SUN Xiao-jun~2,ZHANG Zeng-yi~3,TANG Wei-zhong~1,LU Fan-xiu~1 |
| Abstract: | In this study the mechanism of suppression and elimination droplets of various factors in line magnetic filtering devices was discussed in are plating TiAlN films deposition, including effect of magnetic on arc spot, target toxic, circumfluence of electron and ion and overlapping bias. The acting contents of several factors were an alyzed by experimental. It shows that effects of filter magnetic on split and movement speed of are spot are most remarkable. This is extremely useful for controlling the size and density of macroparticles in practical production. |
| Keywords: | filtering arc macroparticles magnetic |
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