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抗恶劣环境光盘的结构和温度特性研究

引用本文：	胡作启,李佐宜,熊锐,杨晓非,胡用时.抗恶劣环境光盘的结构和温度特性研究[J].信息记录材料,1997(3).

作者姓名：	胡作启李佐宜熊锐杨晓非胡用时

作者单位：	华中理工大学

摘要：	分析了磁光记录技术的发展趋势，研究了磁光盘的结构及溅射工艺，研究成功了宽温（使用温度范围-20～＋60℃、高湿60％～95％RH）抗恶劣环境的磁光盘。
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