| 应用于微反射镜制作的光亮镀镍工艺 |
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| 引用本文： | 李加东,宣明,吴一辉,张平,王淑荣,刘永顺.应用于微反射镜制作的光亮镀镍工艺[J].功能材料与器件学报,2008,14(2):336-340. |
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| 作者姓名： | 李加东 宣明 吴一辉 张平 王淑荣 刘永顺 |
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| 作者单位： | 中国科学院,长春光学精密机械与物理研究所,应用光学国家重点实验室,吉林长春,130033;中国科学院,研究生院,北京,100039;中国科学院,长春光学精密机械与物理研究所,应用光学国家重点实验室,吉林长春,130033 |
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| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划(863计划)
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中国科学院创新信息基地项目 |
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| 摘 要： | 研究了一种可用于微反射镜制作的光亮镀镍工艺.分析了微小面积电镀时出现边缘效应的问题,提出了增加牺牲结构的方法提高沉积速率并降低电镀边缘效应.通过脉冲微电镀实验,讨论了电流对电镀边缘效应的影响,同时分析了影响镀层表面质量的因素,得出了一组具有参考价值的电镀参数,电镀出了长620μm、宽500μm、厚2μm的微反射镜表面结构,经测量计算,该条件下,镍的生长速度约为0.1μm/min,表面平均粗糙度约为4.376nm.
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| 关 键 词： | 光亮镀镍 微反射镜 微电镀 边缘效应 |
| 文章编号： | 1007-4252(2008)02-0336-05 |
| 修稿时间： | 2007年7月20日 |
Bright Nickel Plating for the Fabrication of Micromirror |
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| LI Jia-dong,XUAN Ming,WU Yi-hui,ZHANG Ping,WANG Shu-rong,LIU Yong-shun.Bright Nickel Plating for the Fabrication of Micromirror[J].Journal of Functional Materials and Devices,2008,14(2):336-340. |
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| Authors: | LI Jia-dong XUAN Ming WU Yi-hui ZHANG Ping WANG Shu-rong LIU Yong-shun |
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