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| 第八届国际金属腐蚀会议论文题录(一) | |
| 作者单位： | 一机部武汉材料保护研究所腐蚀研究室 |
| 摘 要： | 1.1 一般腐蚀与局部腐蚀1.钝化膜的电子学特性(P.1～5)J.W.Schultze(西德) 2.膜的厚度和成分对铁的钝态破坏的影响(P.6～11) Rokuro Nishimura和Kiyokatsu Kudo(日本) 3.在单孔电极上蚀点的成长动力学(P.12～17) P.Heimgartner(瑞士) |
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