| 薄膜厚度对ITO膜结构与性能的影响 |
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| 引用本文： | 辛荣生,林钰. 薄膜厚度对ITO膜结构与性能的影响[J]. 真空, 2007, 44(5): 22-24 |
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| 作者姓名： | 辛荣生 林钰 |
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| 作者单位： | 1. 郑州大学材料科学与工程学院,河南,郑州,450052
2. 河南教育学院化学系,河南,郑州,450014 |
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| 摘 要： | 本文对所研究的直流磁控溅射法制备的ITO透明导电薄膜,采用X射线衍射技术进行了膜层晶体结构与薄膜厚度关系的分析, 并测量了薄膜电阻率及透光率随薄膜厚度的变化情况.实验结果表明,当控制薄膜厚度达70 nm以上时,可获得结晶性好、电阻率低和透光率高的ITO透明导电薄膜,所镀制的ITO膜电阻率已降到1.8×10^-4 Ωcm,可见光透过率达80%以上.最后还对所镀制的ITO透明导电薄膜的质量指标作了评估.
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| 关 键 词： | 磁控溅射 ITO膜 膜厚 电阻率 透光率 |
| 文章编号： | 1002-0322（2007）05-0022-03 |
| 修稿时间： | 2007-05-26 |
Influence of film thickness on structure and properties of ITO films |
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| XIN Rong-sheng,LIN Yu. Influence of film thickness on structure and properties of ITO films[J]. Vacuum(China), 2007, 44(5): 22-24 |
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| Authors: | XIN Rong-sheng LIN Yu |
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| Affiliation: | 1. College of Material Science and Engineering, Zhengzhou University, Zhengzhou 450052, China ; 2. Department of Chemistry,Henan Education Institute, Zhengzhou 450014, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | magnetron sputtering ITO thin film thickness resistivity transmissivity |
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