砷化镓表面的表征

本文讨论用机械的和化学的方法制备砷化镓晶体表面。利用不同的化学腐蚀剂对逐次抛光过程中的各表面进行对比研究。用显微法定性地和用 Rutherford 反向散射/沟道法定量地鉴定表面。计算了抛光表面上的镓和砷的浓度,发现表面通常是富砷的,其富砷量与所用的化学抛光液有关。测量了低的表面杂质浓度(如碲≥2×10~(13)原子/厘米~2),在两次化学抛光之间测定浓度的变化。发现杂质浓度的变化是不规律的。