| 低收缩耐候性紫外光固化材料的研制 |
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| 引用本文： | 吕雪松,翁睿.低收缩耐候性紫外光固化材料的研制[J].武汉理工大学学报,2013,35(2):12-15. |
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| 作者姓名： | 吕雪松 翁睿 |
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| 作者单位： | 武汉理工大学材料科学与工程学院,武汉,430070 |
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| 基金项目： | 国家“863”项目(2003AA305071) |
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| 摘 要： | 采用正交试验的方法,研制了一种新型低收缩耐候性紫外光固化材料。该体系包括KH-570改性的自制纳米二氧化硅(75nm)、自制双酚A环氧丙烯酸、光引发剂(831、1 173)、活性稀释剂TMPTA及螺环膨胀单体(3,9-二乙基-3,9-二羟甲基-1,5,7,11-四氧杂螺环-5,5-十一烷)。通过控制改变二氧化硅、活性单体、光引发剂、螺环单体与丙烯酸树脂的不同配比进行试验。结果表明:当二氧化硅用量为10%,活性稀释剂TMPTA用量15%,膨胀单体用量15%,复合光引发剂用量3%时,体系综合性能最佳,耐紫外老化性能得到明显改善。该体系性能优良,有广阔的应用前景,当改变稀释剂种类时,还可以应用于补牙材料。
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| 关 键 词： | 正交试验 纳米二氧化硅 膨胀单体 |
Research on Low Shrinkage and Weathering Resistance UV-curable Material |
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| LV Xue-song,WENG Rui.Research on Low Shrinkage and Weathering Resistance UV-curable Material[J].Journal of Wuhan University of Technology,2013,35(2):12-15. |
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| Authors: | LV Xue-song WENG Rui |
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| Affiliation: | (School of Materials Science and Engineering,Wuhan University of Technology,Wuhan 430070,China) |
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