华虹NEC非外延0．35umBCD工艺实现量产

华虹NEC日前宣布，其非外延0．35umBCD工艺开始量产。华虹NEC在2008年成功研发并量产了BCD350（0．35微米Bipolar CMOS DMOS）工艺。针对市场的不同需求，华虹NEC现又推出了非外延工艺的0．35umBCD工艺，即PMU350工艺。PMU350在BCD350的基础上用deep Nwell替代了外延层，并简化了工艺流程，使该工艺更具竞争力。目前，PMU350工艺已经顺利通过了产品验证开始量产。