| Si/SiGe/Si-SOI异质结构的同步辐射双晶貌相术和高分辨三轴晶X射线衍射 |
| |
| 引用本文： | 马通达,屠海令,胡广勇,邵贝羚,刘安生. Si/SiGe/Si-SOI异质结构的同步辐射双晶貌相术和高分辨三轴晶X射线衍射[J]. 半导体学报, 2005, 26(7): 1359-1363 |
| |
| 作者姓名： | 马通达 屠海令 胡广勇 邵贝羚 刘安生 |
| |
| 作者单位： | 北京有色金属研究总院国家半导体材料工程研究中心 北京100088(马通达，屠海令)，北京有色金属研究总院国家有色金属及电子材料分析检测中心 北京100088(胡广勇，邵贝羚)，北京有色金属研究总院国家有色金属及电子材料分析检测中心 北京100088(刘安生) |
| |
| 摘 要： | 运用同步辐射双晶貌相术结合高分辨三轴晶X射线衍射对经原位低温热处理的Si/SiGe/Si-SOI异质结构进行研究，发现Si层（004）衍射峰两侧半高宽（FWHMs）处同步辐射双晶形貌像特征存在明显差异．对同步辐射双晶摇摆曲线中Si层（004）衍射峰的不对称性给予了解释，同时阐明了高分辨三轴晶X射线衍射2θ-ω扫描曲线中Si层（004）衍射双峰与Si层衍射结构的对应关系．
|
| 关 键 词： | 同步辐射双晶貌相术；高分辨三轴晶X射线衍射；衍射双峰 |
| 文章编号： | 0253-4177（2005）07-1359-05 |
| 收稿时间： | 2004-11-09 |
| 修稿时间： | 2005-01-21 |
Si/SiGe/Si-SOI by Synchrotron Radiation Double-Crystal Topography and High-Resolution Triple-Axis X-Ray Diffraction |
| |
| Ma Tongda,Tu Hailing,HU Guangyong,Shao Beiling,Liu Ansheng. Si/SiGe/Si-SOI by Synchrotron Radiation Double-Crystal Topography and High-Resolution Triple-Axis X-Ray Diffraction[J]. Chinese Journal of Semiconductors, 2005, 26(7): 1359-1363 |
| |
| Authors: | Ma Tongda Tu Hailing HU Guangyong Shao Beiling Liu Ansheng |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | synchrotron radiation double-crystal topography high-resolution triple-axis X-ray diffraction double diffraction peaks |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
| 点击此处可从《半导体学报》浏览原始摘要信息 |
|
点击此处可从《半导体学报》下载全文 |
