| 在GaAs材料上制备衍射光学元件 |
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| 引用本文： | 吕俊峰,张静娟,等.在GaAs材料上制备衍射光学元件[J].光电子．激光,2001,12(7):762-764. |
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| 作者姓名： | 吕俊峰 张静娟 |
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| 作者单位： | 中科院研究生院, |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目 (6 99770 18) |
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| 摘 要： | 本文介绍了在GaAs材料上制做衍射光学元件（DOE）的现状和发展，分析了该领域近期的研究热点及重要成果，其中，着重对刻蚀技术进行了讨论。
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| 关 键 词： | 衍射光学元件 刻蚀 砷化镓 |
| 文章编号： | 1005-0086(2001)07-0762-03 |
| 修稿时间： | 2001年4月13日 |
Diffractive Optical Elements fabricated on GaAs |
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| LU Jun feng,ZHANG Jing juan,LIANG Wen xi.Diffractive Optical Elements fabricated on GaAs[J].Journal of Optoelectronics·laser,2001,12(7):762-764. |
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| Authors: | LU Jun feng ZHANG Jing juan LIANG Wen xi |
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| Abstract: | Recent developments and trends in diffractive optical elements (DOE) fabraicated on GaAs were introduced.Meanwhile,,the focal points and some important achievements in this field were analyzed.In this paper,the etching technologies were most discussed. |
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| Keywords: | GaAs diffractive optical elements (DOE) etching |
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