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| 金刚石薄膜电子场发射研究进展 | |
| 作者姓名： | 茅东升 诸玉坤 |
| 作者单位： | [1]中国科学院上海冶金研究所离子束开放实验室 [2]华东师范大学电子科学技术系 |
| 摘 要： | 综述了近来金刚石和类金刚石薄膜电子场发射性能的研究进展，金刚石薄膜是出色的场发射材料，由于其很低的或者是负的电子亲和势（导带能级粒于真空能级之上）和良好的化学稳定性，在真空微电子和场发射显示领域具有广阔的应用前景。 |
| 关 键 词： | 金刚石 薄膜 电子场发射性能 研究进展 制备 |
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