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Ta/Pt双底层Co/Ni多层膜的反常霍尔效应
引用本文:俱海浪,李宝河,刘帅,于广华. Ta/Pt双底层Co/Ni多层膜的反常霍尔效应[J]. 材料工程, 2015, 0(11): 19-23. DOI: 10.11868/j.issn.1001-4381.2015.11.004
作者姓名:俱海浪  李宝河  刘帅  于广华
作者单位:1. 北京科技大学材料科学与工程学院,北京100083;北京工商大学理学院,北京102488;2. 北京工商大学理学院,北京,102488;3. 北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083
摘    要:通过JGP560A型磁控溅射仪制备了一系列以Ta/Pt为底层的Co/Ni多层膜样品,研究了多层膜中Pt缓冲层厚度、周期层中Co与Ni厚度以及多层膜周期数对样品反常霍尔效应和磁性的影响。结果发现:逐渐增厚的Pt层可以使样品的矫顽力增加,但是分流作用会导致样品的霍尔电阻降低,通过比较确定Pt缓冲层的厚度为2nm;磁性层中Co和Ni都处于一定厚度范围内时,多层膜的霍尔回线才能具有良好的矩形度,当厚度超出其特定范围时,多层膜的矩形度会变差,经过分析确定磁性层中Co和Ni的厚度为均0.4nm;磁性层的周期数对样品的性能也有着显著的影响,最终通过对周期数优化获得的最佳样品结构为Ta(2nm)Pt(2nm)Co(0.4nm)Ni(0.4nm)Co(0.4nm)Pt(1nm),该样品的霍尔回线矩形度非常好,霍尔信号明显,该样品总厚度在7nm以内,可进一步研究其在垂直磁纳米结构中的应用。

关 键 词:Co/Ni多层膜  反常霍尔效应  垂直磁各向异性

Extraordinary Hall Effect on Co/Ni Multilayers with Ta/Pt Underlayer
Abstract:
Keywords:Co/Ni multilayers  anomalous Hall effect  perpendicular magnetic anisotropy
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