可控硅式磁控溅射靶极电源的研制 |
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引用本文: | 张勇,魏海波.可控硅式磁控溅射靶极电源的研制[J].真空,1994(4):36-39. |
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作者姓名: | 张勇 魏海波 |
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作者单位: | 沈阳真空技术研究所 |
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摘 要: | 本文介绍的电源具有下垂特性的电流,电压负反馈双闭环系统,采用P-I调节,使电源系统具有良好的动态特性。引入了电流截止负反馈,解决靶极辉光放电问题。该电源与负载匹配能力强、体积小、集成度高、抗干扰能力强、调节方便。
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关 键 词: | 磁控溅射靶极 电源 可控硅式 研制 |
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