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可控硅式磁控溅射靶极电源的研制
引用本文:张勇,魏海波.可控硅式磁控溅射靶极电源的研制[J].真空,1994(4):36-39.
作者姓名:张勇  魏海波
作者单位:沈阳真空技术研究所
摘    要:本文介绍的电源具有下垂特性的电流,电压负反馈双闭环系统,采用P-I调节,使电源系统具有良好的动态特性。引入了电流截止负反馈,解决靶极辉光放电问题。该电源与负载匹配能力强、体积小、集成度高、抗干扰能力强、调节方便。

关 键 词:磁控溅射靶极  电源  可控硅式  研制
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