| 过渡层ZrO2对不同沉积厚度TiO2薄膜结构的影响 |
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| 引用本文： | 杜玉军,杨陈,惠迎雪. 过渡层ZrO2对不同沉积厚度TiO2薄膜结构的影响[J]. 材料导报, 2007, 21(8): 146-147 |
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| 作者姓名： | 杜玉军 杨陈 惠迎雪 |
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| 作者单位： | 西安工业大学光电学院,西安,710032;西北工业大学材料学院,西安,710072;西安工业大学光电学院,西安,710032;西北工业大学材料学院,西安,710072 |
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| 基金项目： | 陕西省教育厅资助项目，陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室项目 |
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| 摘 要： | TiO2作为高介电常数材料已被广泛研究.为了防止TiO2与Si基底发生反应,在Si与TiO2之间加入与TiI2结构相似热稳定性好的ZrO2作为过渡层.改变TiO2薄膜厚度,并在900℃对薄膜进行1h退火处理.通过XRD分析显示,随着TiO2厚度减小,各衍射峰强度逐渐降低,但各峰位及其相对强度无明显变化.通过SEM可以发现,热处理前各薄膜均无裂纹和孔洞.热处理后,TiO2厚度为150m及80nm的薄膜平整光滑无裂纹孔洞,晶粒排列致密晶界清晰,当TiO2厚度降为30nm时,薄膜仍平整光滑,只在晶界上出现因热处理而产生的缩孔.
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| 关 键 词： | TiO2薄膜 ZrO2过渡层 电子束蒸发 薄膜厚度 薄膜结构 |
Effect of ZrO2 Buffer Layer on the Structures of TiO2 Films with Various Deposition Thicknesses |
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| DU Yujun,YANG Chen,XI Yingxue. Effect of ZrO2 Buffer Layer on the Structures of TiO2 Films with Various Deposition Thicknesses[J]. Materials Review, 2007, 21(8): 146-147 |
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| Authors: | DU Yujun YANG Chen XI Yingxue |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | TiO2 film ZrO2 buffer layer reactive electron beam evaporation film thickness film structure |
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