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薄膜生长的计算机模拟
引用本文:李阳平,刘正堂. 薄膜生长的计算机模拟[J]. 功能材料与器件学报, 2002, 8(3): 309-313
作者姓名:李阳平  刘正堂
作者单位:西北工业大学材料科学与工程系,西安710072
摘    要:薄膜技术在现代科技领域中有着广泛的应用。人们对薄膜的生长过程通过理论和实验进行了深入的研究,其中计算机模拟是重要的方法,本文概述了对薄膜生长过程的实验观察结果及其理论分析,主要讨论了薄膜生长的计算机模拟中经常采用的方法-蒙特卡罗法和分子动力学方法、描述衬底上成膜粒子运动的一些模型以及在计算机模拟中需注意的一些问题,其中主要包括粒子间的相互作用,入射粒子的能量和粒子上的衬底上的扩散运动。

关 键 词:薄膜生长 计算机模拟 计算机模型 气相沉积
文章编号:1007-4252(2002)03-0309-05
修稿时间:2001-10-16

Computer simulation of thin film growth
LI Yang -ping,LIU Zheng -tang. Computer simulation of thin film growth[J]. Journal of Functional Materials and Devices, 2002, 8(3): 309-313
Authors:LI Yang -ping  LIU Zheng -tang
Abstract:Thin film technologies are widely u sed in modern scientific and technological fields.Thin film growth has been studied deeply a nd computer simulation is a useful me thod in the studies.In this article,some experimental results and corresponding theoretical analyses of thin film growth are sum -marized.Computer simulation methods including Monte Carlo Methods,Mo lecular Dynamics and some models of describing the moveme nts of the particles reached the substrate are mainly discussed here.Some important factors such as the interactions between particles,dynamic power of incidence particles and the diffusion of the particles on substrate,which should b een considered in computer simulation are also discussed.
Keywords:thin film  thin film growth  comput er simulation  computer model
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