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氨化合成一维GaN纳米线
引用本文:王显明,杨利,王翠梅,薛成山.氨化合成一维GaN纳米线[J].稀有金属材料与工程,2004,33(6):670-672.
作者姓名:王显明  杨利  王翠梅  薛成山
作者单位:山东师范大学,山东,济南,250014
基金项目:国家自然科学基金重大研究计划(90201025),国家自然科学基金(60071006)资助项目
摘    要:用氨化溅射Ga2O3薄膜的方法,成功地合成了一维GaN纳米线。用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、透射电镜(TEM)和高分辨电镜(HRTEM)对样品进行了分析。生成的GaN纳米线平直光滑,其直径为20nm~90nm,长可达50μm;纳米线为高质量的单晶六方纤锌矿GaN,沿110]方向生长。用此工艺制备GaN纳米线,避免了在制备过程中引入杂质,合成的纳米线纯度较高。

关 键 词:氨化  Ga2O3薄膜  GaN纳米线  射频磁控溅射
文章编号:1002-185X(2004)06-0670-03
修稿时间:2002年12月10

Synthesis of One-Dimensional GaN Nanowires by Ammoniating
Wang Xianming,Yang Li,Wang Cuimei,Xue Chengshan.Synthesis of One-Dimensional GaN Nanowires by Ammoniating[J].Rare Metal Materials and Engineering,2004,33(6):670-672.
Authors:Wang Xianming  Yang Li  Wang Cuimei  Xue Chengshan
Abstract:
Keywords:ammoniating  Ga2O3 thin film  GaN nanowires  rfmagnetron sputtering  
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