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| 高精度光刻机及其在大规模集成电路上的应用 | |
| 引用本文： | 加纳一郎,喻德政.高精度光刻机及其在大规模集成电路上的应用[J].电子工业专用设备,1978(2). |
| 作者姓名： | 加纳一郎 喻德政 |
| 摘 要： | 微细图形加工技术是集成电路向高集成化发展的关键,其中图形曝光对准是很主要的。由于接触式光刻机的精度高、设备造价低,所以在集成电路制造中被广泛采用。但是,随着大规模集成电路不断向高集成化、微细化发展又出现了各种问题。第一是由于掩模和片子接触会产生伤痕。这样会引起掩模量消耗量大及成品率降低的问题,随着集成度的增大问题就愈来愈突出。其次是对准精度不高。这是因为对准时掩模和片子必须离开20微米左右,无法对二者同时清晰观 |
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